第105章 超強淨水薄膜

    由於有發放的具體實驗操作步驟，兩個多小小時候就合成了相應的產物。

    李默戴著口罩和手套，小心翼翼地將製成的這種未知的黑色粉末密封起來，拿到電子顯微鏡下面開始觀察。

    找了不到三分鐘後才發現了許黎所描述的十二邊氧化硅分子。

    看到這裡後，李默申請也是有些興奮。

    沒想到這種化合分子真的存在，隨即他便開始吩咐幾個研究人員。

    “準備氣相沉積！”

    氣相沉積簡稱cvd，是指把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。

    很多大規模的集成電路中的很多薄膜，往往都是通過氣相沉積製備的。

    主要也分為熱化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和等離子體化學氣相沉積，這三種對應的實驗設備和手段也不同。

    但是氣相沉積想要成功製備出薄膜，就需要滿足三個必要的製備條件。

    首先，在沉積溫度下，反應物具有足夠的蒸氣壓，並能以適當的速度被引入反應室；

    其次，反應產物除了形成固態薄膜物質外，都必須是揮發性的；

    最後，沉積薄膜和基體材料必須具有足夠低的蒸氣壓。

    三者缺一不可。

    李默很開始將黑色粉末轉移到氣相沉積設備裡，開啟設備。

    而這一段時間內就只能先等了。

    一個鐘頭之後，氣相沉積搞定。

    李默將沉積的薄膜從箱子裡取出，一張半徑在60釐米的半透明薄膜被反正試驗檯上，呈現在眾人面前。

    看這張薄膜，幾個研究員都是很好奇。

    這種薄膜有什麼用處？

    不過，光是這一張還不夠，他們接著從其他的氣相沉積設備裡，取出五張薄膜。

    在經過加工清洗後，李默等人才將其拿到電子顯微鏡下觀察。

    “校長，這幾張薄膜都嵌合了十二氧化硅，你看，這是檢測報告。”

    李默將檢測出來的報告遞給許黎。

    “很好，接下來我們準備一下過濾實驗。”