第187章 極紫外光源的進展

　　光學技術研發實驗室

　　徐華和李默這兩位負責人正在為極紫外光源技術的幾個問題進行討論。

　　“李博士，雖然我們有複眼鏡頭的加持，但是在靶材、碎屑汙染也是問題啊！”

　　徐華有些犯愁。

　　雖然說蜂巢複眼鏡頭技術的出現，從某種程度上解決了極紫外光源的核心鏡片問題，但是仍舊有一些問題存在。

　　眾所周知，euv極紫外光刻機最為關鍵的部件就是極紫外光源，這就不用多說了。

　　而極紫外光源主要有五大關鍵的問題技術需要攻破，才能正式製造出該光源。

　　其一是多層膜反射鏡，由於euv光源子能量極高，幾乎可被所有介質所吸收，較高的反射率可以極大提高光源性能。

　　而經過研究發現，採用mo/si多層膜製備出的反射鏡對中心波長為13.5nm、光譜帶寬在2%以內euv光的反射率可達70%。

　　而這一技術在許黎拿出複眼鏡頭技術之後，經過一番實驗後也攻克了。

　　其二——靶材，為降低離子碎屑、提高euv-ce，人們開始逐漸減小sn靶的尺寸，並最終將液滴sn靶作為主要研究對象。

　　但是液滴sn的時空的不穩定性，也給光刻機光源的設計和製造增加了難度。

　　其三其四分別是驅動光源和雙脈衝模式，這裡不過多講解。

　　最後就是碎屑汙染的問題，激光等離子體通過激光將入射到靶材產生高溫、高密度的等離子體並輻射euv光，其過程必然會產生一定的碎屑（由熔融液滴、微粒團簇、中性碎屑原子和高能離子組成）。

　　這些碎屑不處理好的話，也會損壞光刻機光學元件，進而影響其性能，甚至對人體健康也有一定的影響。

　　目前市售euv光刻機產品均採用將充入惰性氣體或氫氣和外加磁場相結合的方案除去碎屑，當然也可以採用雙脈衝方案去除。

　　不過這兩種方案皆是不適用於現在所設計的光源。

　　所以還需要重新商討和設計一個去除碎屑的方案。

　　“怎麼了？看你們愁眉苦臉的樣子。”

　　一道熟悉的聲音在他們耳邊響起。

　　兩人轉過頭去，原來是許黎來了。

　　他才從施工現場回來，想到最近的euv光源項目研究進展，就順道過來看看。