第455章 浸潤式光刻機技術

               　　一直沉默不語的林本堅突然說道：“楊總，光刻機的光源一直停滯在193納米的波長，各大光刻機公司絞盡腦汁，也無法將波長縮短到157納米，所以我想嘗試遊說光刻機廠家，另闢蹊徑，轉換設計理念，把傳統的空氣為介質的乾式微影技術，改為浸潤式光刻工藝……”

　　楊墨心頭一動，幾乎脫口而出道：“浸潤式光刻工藝？”

　　林本堅連忙解釋道：“楊總，浸入式光刻方案並非心血來潮，我在ib

　　這麼看來，阿斯麥顛覆尼康、佳能霸主地位的新一代浸潤式光刻機，大概率就是在臺積電技術人員的啟發下完成的！

　　“楊總，光刻機涉及光學設計、材料科技、電子控制系統、精密製造等多個高精尖領域，製造難度之大，超乎常人想象，製造過程中，需要高度精確的工藝控制和複雜的供應鏈管理，每個環節的精密度和複雜度超乎想象，我們到目前為止，只有一個沒有經過驗證的方案，僅憑我們自己的技術力量，恐怕很難完成！”一直沉默不語的蔣尚義突然說道。