第182章 救星來了！

 因為他們蘇省微電子的所有精力，都用來研發光刻膠了，對多重曝光等壓縮製程的工藝，沒有太多的研究，所以13.5納米只是他們研究所的最小製程工藝。 

 而這款光刻膠具體的最小製程，得找申城硅產業或者立昂微來做進一步的驗證，尤其是最早拿到euv光刻機的申城硅產業，經過這幾個月的摸索調試，他們已經把製程工藝推到了5nm。 

 不過為了穩妥起見，吳利鴻還是按捺住激動的心情，對大家開口道：“立即準備蝕刻實驗驗證，確認最後的環節沒問題再送到申城硅產業去。” 

 “明白！” 

 研究員們聽到後，頓時又開始忙碌了起來。 

 本來按照他們之前的實驗流程，實驗到了這一步基本就是失敗了，這次其實根本就沒有做好進入蝕刻環節的準備。 

 但面對這個意想不到的巨大驚喜，大家卻沒有一絲‘臨時加班’的怨言，一個個都吭哧吭哧地開始重新準備實驗。 

 兩個小時後，最終結果終於出爐了。 

 他們研發的光刻膠，成功地經受幹法刻蝕中高能粒子的洗禮，順利完成了保護硅片基底的任務，芯片良品率高達98%！ 

 在吳利鴻院士的帶領下，蘇省大學微電子研究員，終於成功研發出了一款能勝任13.5nm製程的國產頂級euv光刻膠！ 

 而且這個13.5納米制程，只是目前的初步實驗結論。 

 從他們這次得到的套刻精度來看，這款光刻膠實際上有相當大的可能，可以勝任5納米制程芯片的製造！ 

 吳利鴻也非常沉得住氣，沒有選擇立即將實驗結果上報上去，而是讓研究員們按照上次的配方，重新調配了一批光刻膠。 

 然後重複做了足足十次實驗，確認每次的結果誤差都在可接受的範圍內後，才帶著光刻膠和團隊的主要技術人員飛往魔都，來到了申城硅產業集團。 

 此時的申城硅產業的集團總裁陳雲明恰好在和華威的餘總和何總，討論華威p6的芯片代工問題。 

 而雙方討論的要點，就是產量和成本的問題。 

 華威本著量大從優的道理，想要直接訂購兩千萬枚麒零9000。 

 但申城硅產業現在，其實也就只有一臺秦光一號。 

 按照秦光一號每小時180片的硅片吞吐量，以及製造出的每片晶圓可以切割出500枚芯片來算，一臺光刻機每天的產能應該有216萬枚。 

 但實際上，光刻機的吞吐量不代表晶圓的製造速度，而是要根據不同芯片的設計，進行多次曝光和蝕刻。